シリコン基板表面にアモルファス酸化膜を用いた非対称な3色多層構造を作製することにより，表面分極の大きさや方向を制御可能であることをテラヘルツ計測技術等を用いて実証しました。
https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5034494
シリコン基板表面にアモルファス酸化膜を用いた非対称な3色多層構造を作製することにより，表面分極の大きさや方向を制御可能であることをテラヘルツ計測技術等を用いて実証しました。
https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5034494
