発明・特許名： 核融合照射配位決定方法、核融合照射配位決定装置
出願番号：特願2009-0372　（国際特許分類G21B 1/00）
出願年月：2009.8.10
発明者：村上匡且, 疇地　宏, 猿倉信彦、安原　亮、川嶋利幸, 菅 博文

===========<2009年>==========

発明・特許名：ナノクラスタ
出願番号：特願2009-005438
出願年月：2009年1月14日
発明者：村上匡且, 片井隆志, 川嶋利幸, 菅 博文

===========<200８年>==========

登録番号（登録年月日）：特許第4081029号 （平成20年2月1日）
特許名称： 核融合ターゲット及び核融合点火方法
発明者：村上匡且, 菅 博文

出願番号(出願年月日）：2008-223612（平成20年9月1日）
特許名称：半導体検査装置及び検査方法
特許出願者氏名：村上博成

出願番号(出願年月日）：特願2008-283642（平成20年11月4日）
特許名称：レーザ利得媒質、レーザ発振器及びレーザ増幅器
特許出願者氏名：河仲準二

出願番号(出願年月日）：特願2008-298437（平成20年11月21日）
特許名称：可視光応答型光触媒複合体
特許出願者氏名：長井圭治

出願番号(出願年月日）：特願2008-207792（平成20年8月12日）
特許名称：テラヘルツ電磁波放射素子およびテラヘルツ電磁波発生方法
特許出願者氏名：長島健

出願番号(出願年月日）：特願2008-072090（平成20月3月19日）
特許名称： 機械読み取り可能な偽造防止媒体および機械読取可能な偽造防止媒体の真偽判定方法
特許出願者氏名：萩行正憲

出願番号(出願年月日）：特願2008-072090（平成20年3月19日）
特許名称：機械読み取り可能な偽造防止媒体および機械読取可能な偽造防止媒体の真偽判定方法
特許出願者氏名：萩行正憲

出願番号(出願年月日）：特願2008-3912（平成20年1月11日）
特許名称：非晶質シリコン半導体膜のレーザー結晶化方法及び装置並びに当該方法又は装置で製造されたフラットパネルディスプレイ
特許出願者氏名：實野孝久

出願番号(出願年月日）：特願2008-104280（平成20年4月14日）
特許名称： EUV光源
特許出願者氏名：西原功修

===========<2007年>==========

出願番号：特願2007-263062
特許名称：固体レーザー装置
発明者氏名：猿倉信彦

出願番号：特願2008-3912
特許名称（発明届時）：アモルファスシリコン薄膜の相変化を利用する自動安定化レーザーアニール法
特許名称（特許出願時）：非晶質シリコン半導体膜のレーザー結晶化方法及び装置並びに当該方法又は装置で製造されたフラットパネルディスプレイ
発明者氏名：實野孝久

出願番号：特願2007-224181
特許名称：鏡支持構造
発明者氏名：實野孝久

出願番号：特願2007-207453
特許名称：バブルターゲット
発明者氏名：長井圭治

出願番号(出願年月日）：
特許名称：レーザーによる低密度プラズマの生成とそれを利用した高効率レーザープラズマＥＵＶ光源
発明者氏名：西原功修

===========<200６年>==========

特願2006-053583（特開2007-230815）
発明者：上田　哲司、大内　道成、西村　宏之、藤ノ木　朗、藤本　靖、中塚　正大
発明名称：｢レーザー媒質用シリカガラス｣
出願人：信越石英株式会社
出願日：2006年2月28日

PCT/JP2006/303739
発明者：藤本　靖、中塚　正大、徐　永錫
発明名称：｢広帯域光増幅装置｣
出願人：国立大学法人大阪大学、科学技術振興機構
出願日：2006年2月28日

T/JP2006/303322
発明者：藤本　靖、中塚　正大、徐　永錫、坂口　浩一、岸本　正一
発明名称：「ビスマスを含有するガラス組成物、およびこれを用いた信号光の増幅方法」
出願人：国立大学法人大阪大学、日本板硝子株式会社、科学技術振興機構
出願日：2006年2月23日

特願2005-059908
発明者：藤本　靖、中塚　正大、徐　永錫
発明名称：｢ビスマス蛍光体による広帯域光増幅装置｣
出願人：国立大学法人大阪大学、科学技術振興機構
出願日：2005年3月4日

PC特願2005-050540
発明者：藤本　靖、中塚　正大、徐　永錫、坂口　浩一、岸本　正一
発明名称：「ビスマスを含有するガラス組成物、およびこれを用いた信号光の増幅方法」
出願人：国立大学法人大阪大学、日本板硝子株式会社、科学技術振興機構
出願日：2005年2月25日

発明・特許名：変換効率、変換効率算出、及びコンピュータプログラム
出願番号：特願2005-333255
出願年月：2005年11月1日
発明者：村上匡且

===========<2004年>==========

特願2003-429570、特願2004-325846（特開2005-210072）
発明者：藤本　靖、中塚　正大、高瀬　仁
発明名称：「光ファイバおよび広帯域光増幅器」
出願人：科学技術振興機構
出願日：2004年11月10日

発明の名称：テラヘルツ電磁波による物体の画像測定装置及び方法
発明者：ミハエル　ヘルマン、阪井　清美、谷　正彦
特許出願人：情報通信研究機構
特許登録番号：特許第3709439号
特許登録年月日：2005年8月19日

===========<2003年>==========

発明の名称（要約）：「テラヘルツ電磁波発生装置」（ＭｇＯレンズカップラーによる半導体表面からのテラヘルツ波放射強度の増大）
発明者：萩行正憲，中嶋誠，谷正彦
特許出願人：関西電力株式会社
出願日：2003年9月26日
出願番号：特願2003-334766

発明の名称（要約）：「テラヘルツ電磁波発生素子」（ウェッジ型ZnTeからの広帯域テラヘルツ波放射）
発明者：萩行正憲，中嶋誠，谷正彦
特許出願人：関西電力株式会社
出願日：2003年9月25日
出願番号：特願2003-333491

発明の名称（要約）：「半導体装置，テラヘルツ波発生装置，およびそれらの製造方法」（Si基板上InAsの作製とTHz電磁波発生）
発明者：谷　正彦，枝村　忠孝
特許出願人：浜松ホトニクス株式会社
出願日：2003年6月23日
出願番号：特願2003-178562

===========<2002年>==========

特願2002-373468（特開2003-283028）
発明者：岸本　正一、坂口　浩一、津田正宏、中垣　茂樹、吉井　成和、藤本　靖、中塚　正大
発明名称：「赤外発光体および光増幅媒体」
出願人：日本板硝子株式会社
出願日：2002年12月25日
特許番号：特許第3897170号
登録日：2007年1月5日

特願2002-27901（特開2003-229621）
発明者：藤本　靖、中塚　正大
発明名称：「固体レーザー材料及びその製造方法とレーザー発生装置」
出願人：科学技術振興機構
出願日：2002年2月5日

発明の名称(Title of patent)：　光学素子及び光学素子の製造方法
出願番号(Patent No.)：　特願2002-181885
出願日(Date of application)：　2002年6月21日
発明者(Inventors)：　萩行正憲、近藤孝志
出願人(Applicant)：　財団法人　大阪産業振興機構

発明の名称(Title of patent)：“Polarization analyzing apparatus and method for polarization analysis”
発明者(Patent No.)：T. Nagashima, M. Hangyo and K. Hiranaka
出願人(Applicant)：Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Countries to be filed:

アメリカ合衆国(USA), 出願日：2002年6月26日
台湾(R.O.C.), 出願日：2002年6月26日
欧州(EU), 出願日：2002年6月27日 (出願番号：02 014036.4)

発明の名称(Title of patent)：　位相差板
出願番号(Patent No.)：　特願2002-279443
出願日(Date of application)：　2002年9月25日
発明者(Inventors)：　宮丸　文章，近藤　孝志，長島健，萩行 正憲
出願人(Applicant)：　大阪TLO

===========<2001年>==========

特願2001-47098（特開2002-252397）
発明者：藤本　靖、中塚　正大
発明名称：「光ファイバおよび光増幅器」
出願人：科学技術振興機構
出願日：2001年2月22日

発明の名称：電磁波検出装置および検出方法
特許番号：特許第3477496号
出願日：2001年2月27日
発明者：河野俊介、谷　正彦、阪井　清美
特許権者：情報通信研究機構
特許登録年月日：2003年10月3日

発明の名称：テラヘルツ電磁波時間分解分光装置
出願番号：特願2001-274318
出願日：2001年9月10日
発明者：寶迫　巌、谷　正彦、廣本　宣久、渡邊　昌良、阪井　清美
出願人：独立行政法人情報通信研究機構
特許出願公開番号：特開2003-75251
公開日：2003年3月12日
特許登録年月日：2004年9月24日
特許番号：特許第3598375号
特許権者：独立行政法人情報通信研究機構

発明の名称：テラヘルツ光などの検出方法及び装置、並びに、これをもちいたテラヘルツ光装置及びイメージ化装置 (出願中，審査未請求)
出願番号：特願2001-269621
出願日：2001年2月27日
発明者：谷　正彦，ミヒャエル・ヘルマン，阪井清美，深澤亮一，宇佐見護
特許公開番号：2003-075251

発明の名称(Title of patent)：　偏光解析装置及び偏光解析方法
公開番号(Patent No.)：　特開2003-014620
出願日(Date of application)：　2001年9月27日
発明者(Inventors)：　長島 健，萩行 正憲，平中 弘一
出願人(Applicant)：　松下電器産業株式会社

===========<2000年>==========

 

===========<1999年>==========

特願平11-125020（特開2000-314709）
発明者：吉田　正典、近藤　健一、中村　一隆、藤本　靖、常深　博
発明名称：「結晶構造データと構成元素データを同時に計測するシステム及び方法」
出願人：工業技術院長、科学技術振興機構
出願日：1999年4月30日

===========<1998年>==========

特願平9−51493、特願平10−51893（特開平11-29334）
発明者：藤本　靖、中塚　正大、村田　一穂、吉田　実、須藤　恭秀
発明名称：「ビスマスドープ石英ガラス、その製造方法、そのガラスを用いた光ファイバ、および光増幅器」
出願人：三菱電線工業株式会社
出願日：1998年3月4日

===========<1996年>==========

特願平8-282690（特開平10-130087）
発明者：中塚 正大 　藤岡 加奈　金辺 忠　吉井 光良　畠中 浩之　喜多 純一
発明の名称：「水溶性結晶の高速育成方法」
出願人：中塚 正大 　倉内 義朗
出願日：1996年10月24日

===========<1995年>==========

特願平7-273726（権利化済）
発明者：藤本　靖、藤ノ木　朗、中塚　正大
発明名称：「レーザー用シリカガラスの製造方法」
出願人：信越石英株式会社
出願日：1995年9月28日
特許番号：特許第3928741号
登録日：2007年3月16日

特願平7-273727（権利化済）
発明者：藤本　靖、藤ノ木　朗、中塚　正大
発明名称：「レーザー用シリカガラス」
出願人：信越石英株式会社
出願日：1995年9月28日
特許番号：特許第3928742号
登録日：2007年3月16日