研究紹介

1. ハイパワーレーザー

 100ジュール級の高パルスエネルギーを発生する次世代セラミックレーザーの開発を行っています.従来のガラスレーザーでは,キロジュール以上の高いパルスエネルギーが得られるものの,繰り返し率は10分~数時間に1パルス程度でした.高度な冷却技術とセラミック媒質により,1秒間に100パルスの高繰り返し率の実現を目指しています.


大型レーザー実験室


次世代パワーレーザーの概念図

2. 超高強度レーザー

 レーザーパルスの時間幅を極限まで短くすることにより,少ないエネルギーで極めて高いピークパワーを実現できます.世界最大の超短パルスレーザー装置である阪大レーザー研のLFEXレーザーのパルス幅は1ピコ秒(1兆分の1秒)で,そのピークパワーは2ペタワット(2000兆ワット)に達します.パルス時間幅を10フェムト秒(100兆分の1秒)まで狭めることで,10ペタワットを超える超高強度極短パルスレーザーの実現を目指しています.これを第二世代のチャープパルス増幅法に次ぐ第三世代の超高強度レーザー技術と位置付け,研究を行っています.


第三世代超高強度レーザー技術の開発


超高強度レーザーシステム

3. 中赤外高出力レーザー

 波長2.7~3μmの中赤外高出力レーザーは,水やガラス,樹脂に強く吸収されるため,医療・産業への応用が期待されています。レーザー加工機メーカーと共同で,中赤外Erドープフッ化物ガラスファイバーレーザーの開発を行っています。PLSグループはこの分野で世界最先端の技術を有しています。


中赤外Erドープフッ化物ガラスファイバーレーザー

4. 新光学素子開発

 パワーレーザーシステムの構築には,高いレーザーパワーに耐える光学素子・光学材料が不可欠です.高レーザー耐力光学素子,磁気光学素子,常温接合レーザーセラミックス等の開発・評価を行っています.


常温接合レーザーセラミックス