研究紹介
1. ハイパワーレーザー
100ジュール級の高パルスエネルギーを発生する次世代パワーレーザー「SENJU (Super-Energetic Join Unit)」の開発を行っています．従来のガラスレーザーでは，キロジュール以上の高いパルスエネルギーが得られるものの，繰り返し率は10分～数時間に1パルス程度でした．SENJUでは高度な冷却技術とセラミック媒質により，1秒間に100パルスの高繰り返し率の実現を目指しています．
次世代パワーレーザー実験室
パワーレーザーモジュールシステム"SENJU"シリーズの概念図
2. 超高強度レーザー
レーザーパルスの時間幅を極限まで短くすることにより，少ないエネルギーで極めて高いピークパワーを実現できます．世界最大の超短パルスレーザー装置である阪大レーザー研のLFEXレーザーのパルス幅は1ピコ秒（1兆分の1秒）で，そのピークパワーは2ペタワット（2000兆ワット）に達します．パルス時間幅を10フェムト秒（100兆分の1秒）まで狭めることで，10ペタワットを超える超高強度極短パルスレーザーの実現を目指しています．これを第二世代のチャープパルス増幅法に次ぐ第三世代の超高強度レーザー技術と位置付け，研究を行っています．
第三世代超高強度レーザー技術の開発
超高強度レーザーシステム
3. 新光学素子開発
パワーレーザーシステムの構築には，高いレーザーパワーに耐える光学素子・光学材料が不可欠です．高レーザー耐力光学素子，磁気光学素子，常温接合レーザーセラミックス等の開発・評価を行っています．
常温接合レーザーセラミックス
